5.5万平，深宇科技园项目优化设计！总平面图、外立面修改公示

12月15日，深圳市规划和自然资源局坪山管理局发布关于深宇科技园项目（宗地号G13111-0110）总平面图及外立面修改事宜的公示。

因企业使用需求，“深宇科技园”项目进行优化设计，总平面图及外立面部分修改。

“深宇科技园”项目（宗地号：G13111-0110），位于坪山区坑梓街道办事处聚龙山片区（锦绣中路与兰景路交汇处东南角），用地面积为55572.52㎡，由深圳市深宇置业控股有限公司开发建设。

该项目于2021年3月25日取得《建设工程规划许可证》（深规土建许字PS-2018-0002改2号）。

根据有关规定，具体修改公示如下：

总图修改

厂房B、C栋之间二层至六层每层增加连廊。

地面停车位增加，厂房地上核减面积调整为地上规定面积，地上核增（架空停车）面积增加，由此引起其它指标产生相应变化。

修改前总图

修改后总图

外立面修改

宿舍A东侧1～7轴13～23层外墙LED屏改为玻璃幕墙。

宿舍A东立面S～V轴2～4层外立面调整由原涂料外墙改为干挂石材、玻璃组合幕墙，裙楼东立面统一。

厂房B、C首层厂房功能改为架空停车。

厂房B、C之间二层至六层每层增加连廊。

以上修改内容详见修改后总平面图云线圈注部分及修改前后效果图对比，修改后各项指标均符合相关规划要求。

公示时间为期10个工作日，自2021年12月15日至2021年12月28日止。

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